Ecuador cautivó las miradas en la Semana de la Moda de Nueva York
Estos fueron los diseños presentados por Alexandra Polo y Miguel Moyano durante el New York Fashion Week. Foto: Cortesía Epson.
Los jóvenes diseñadores ecuatorianos Alexandra Polo y Miguel Moyano representaron a Ecuador en la pasarela privada de Epson: Digital Couture Project, durante la Semana de la Moda de Nueva York.
Polo y Moyano fueron convocados por la plataforma ecuatoriana de moda Designer Book y su directora creativa María Susana Rivadeneira. La exMiss Ecuador estuvo junto a los creativos durante esta cita de moda.
Los diseñadores ecuatorianos llevaron a Nueva York vestidos en los que aplicaron la técnica de sublimación. Esta permite hacer diseños únicos en tela e imprimirlos en cantidades pequeñas o grandes de material. La impresión no es superficial. En la sublimación, la tinta pasa a estado gaseoso, lo que le permite fijarse en las fibras de la tela.
El tema en el que trabajaron Polo y Moyano fue la identidad. La diseñadora cuencana basó sus diseños en una investigación acerca de la pintura corporal que usan los Shuar.
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Mientras tanto, el artista ambateño presentó dos vestidos que se desprenden del proyecto ‘Identidad Totémica’. En esta propuesta política de la moda, Moyano hace una crítica a cómo los rasgos de las etnias se usan para clasificar a los seres humanos. Es por ello que cubre por completo el cuerpo de la modelo con una malla.
Los trajes ecuatorianos se distinguieron frente a las creaciones de 11 diseñadores latinoamericanos. Además, cautivaron la mirada de la prensa internacional, como E entertainment y la revista Vogue de México.
