Estos fueron los diseños presentados por Alexandra Polo y Miguel Moyano durante el New York Fashion Week. Foto: Cortesía Epson.

Estos fueron los diseños presentados por Alexandra Polo y Miguel Moyano durante el New York Fashion Week. Foto: Cortesía Epson.

Ecuador cautivó las miradas en la Semana de la Moda de Nueva York

Los jóvenes diseñadores ecuatorianos Alexandra Polo y Miguel Moyano representaron a Ecuador en la pasarela privada de Epson: Digital Couture Project, durante la Semana de la Moda de Nueva York.

Polo y Moyano fueron convocados por la plataforma ecuatoriana de moda Designer Book y su directora creativa María Susana Rivadeneira. La exMiss Ecuador estuvo junto a los creativos durante esta cita de moda.

Los diseñadores ecuatorianos llevaron a Nueva York vestidos en los que aplicaron la técnica de sublimación. Esta permite hacer diseños únicos en tela e imprimirlos en cantidades pequeñas o grandes de material. La impresión no es superficial. En la sublimación, la tinta pasa a estado gaseoso, lo que le permite fijarse en las fibras de la tela.

El tema en el que trabajaron Polo y Moyano fue la identidad. La diseñadora cuencana basó sus diseños en una investigación acerca de la pintura corporal que usan los Shuar.

Mientras tanto, el artista ambateño presentó dos vestidos que se desprenden del proyecto 'Identidad Totémica'. En esta propuesta política de la moda, Moyano hace una crítica a cómo los rasgos de las etnias se usan para clasificar a los seres humanos. Es por ello que cubre por completo el cuerpo de la modelo con una malla.

Los trajes ecuatorianos se distinguieron frente a las creaciones de 11 diseñadores latinoamericanos. Además, cautivaron la mirada de la prensa internacional, como E entertainment y la revista Vogue de México.