Alex Polo es una de las diseñadoras que presentará sus creaciones. Foto: Cortesía

Alex Polo es una de las diseñadoras que presentará sus creaciones. Foto: Cortesía

Dos diseñadores ecuatorianos en el New York Fashion Week

Ana Cristina Alvarado

Alexandra Polo y Miguel Moyano representarán a Ecuador en febrero del 2017 durante la Semana de la Moda de Nueva York. Los diseñadores fueron invitados por el Digital Couture Project, una iniciativa de Epson para dar a conocer a los diseñadores de moda y de textiles la versatilidad que ofrece la sublimación.

Para esta ocasión, Epson se unió al Designer Book, la plataforma ecuatoriana que organiza desfiles de moda. María Susana Rivadeneira, directora del Designer Book, eligió a dos de los nombres que han mostrado sus colecciones en esta pasarela. Los embajadores ecuatorianos tendrán que presentar cada uno dos piezas inspiradas en la identidad.

Polo es una diseñadora de modas cuencana que en tan solo dos años en el mercado ha mostrado su talento en la creciente industria ecuatoriana. En el NYFW presentará prendas en las que conceptualiza la pintura corporal que utilizan los shuar.

La joven creativa cuenta que, a través de estos adornos faciales, los shuar quieren representar y adquirir el poder de los animales y la vegetación que los rodean. Esas imágenes fueron la base para el diseño de la tela que Polo usará en la confección de las prendas.

Las siluetas, por otro lado, son bastante volumétricas. Esta es una característica del diseño de la línea de la cuencana, pero también es un recurso para comunicar la fuerza de los shuar.

Moyano fue una de las sorpresas de la edición de septiembre del Designer Book, que se realizó en la Capilla del Hombre de Quito. El artista ambateño vive en Medellín, Colombia, y fue ahí donde su trabajo fue reconocido en la pasarela de Colombiamoda.

La propuesta del diseñador colombiano se llama 'Identidad Totémica'. Foto: Cortesía

La propuesta del diseñador colombiano se llama 'Identidad Totémica'. Foto: Cortesía

El diseñador llevará a Nueva York una temática que empezó a desarrollar anteriormente. Las propuestas se desprenden del proyecto ‘Identidad Totémica’. Esta es una visión política de la moda y trata de demostrar cómo las generaciones jóvenes son nuevos seres que portan una identidad pluricultural.

“Para lograr esta intención, plasmo todo el cuerpo con estampados. Desaparezco los rasgos de la etnia y del lenguaje, que son utilizados por los sistemas geopolíticos para diferenciarnos. Es una crítica a esas fronteras geopolíticas que nos dividen como seres humanos”, explica Moyano.

Una foto publicada por MOYANO (@moyano.co) el

Esta es la tercera ocasión en que la empresa japonesa de impresión Epson lleva a diseñadores ecuatorianos a la plataforma más importante de moda en América. En total, son 11 representantes de diferentes países de Latinoamérica que participarán en esta invitación.

En el 2015, la diseñadora cuencana Elizabeth Guillén ganó un concurso de diseño que le permitió ser la primera ecuatoriana en ser invitada por Epson para producir una pequeña colección y presentarla en un evento durante el New York Fashion Week. A inicios de este año, el consagrado Gustavo Moscoso fue el encargado de llevar sus creaciones a esta cita.

La empresa japonesa de impresión puso en el mercado latinoamericano hace menos de cinco años la máquina que plasma los diseños gráficos en telas. La sublimación es un proceso en el que la tinta pasa a estado gaseoso, penetrando las fibras de los textiles.